該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)：

腔體抽至高真空；

通入氬氣，電場電離產(chǎn)生氬離子；

離子在磁場約束下高速轟擊金/鉑/鉻等靶材；

靶材原子被濺射到樣品表面，形成納米級均勻?qū)щ娔ぁ?span lang="EN-US">

本公司提供的IBS150 CIF離子濺射儀特點：

智能觸控，數(shù)據(jù)可視：7英寸彩色觸摸屏，支持中英文界面，實時監(jiān)測并調(diào)控工藝參數(shù)；可存儲20組配方程序，數(shù)據(jù)全程可追溯，確保工藝標準化與重復(fù)性。

靈活操控，雙模式適配： PLC控制系統(tǒng)，支持手動/自動切換，適應(yīng)多樣應(yīng)用場景，操作更自由。

控氣，工藝兼容性強：氣體流量自動調(diào)節(jié)，內(nèi)置質(zhì)量流量計，控制氣體流量，支持氧氣、氬氣、氮氣等多種工藝氣體，滿足多樣化鍍膜需求。

均勻鍍膜，一致性高：樣品臺可旋轉(zhuǎn)并具備高度調(diào)節(jié)功能，顯著提升膜層均勻性與一致性，適配多種靶材。

人性化設(shè)計，操作舒適：60°傾角操作面板，符合人機工程學(xué)，界面清晰簡潔，操作流暢便捷。

低溫處理，樣品無損：鍍膜過程中樣品溫度維持在40–50℃，有效避免熱損傷與熱氧化，保留樣品本征特性。

潔凈防護，避免污染：配備氣體返填吹掃與HEPA高效過濾系統(tǒng)，防止污染物殘留，確保鍍膜環(huán)境潔凈可靠。

多重安全保障：艙門開啟自動斷電，內(nèi)置多項安全保護機制，使用更安心。

CIF離子濺射儀廣泛適用于以下領(lǐng)域：

科研實驗：材料科學(xué)、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域的高精度鍍膜需求。

精密制造：為掃描電子顯微鏡、透射電鏡等儀器制備導(dǎo)電薄膜，增強非導(dǎo)電或?qū)щ娦圆顦悠返挠^測效果。

工業(yè)生產(chǎn)：適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，提升產(chǎn)品質(zhì)量與可靠性。