
簡要描述:CIF等離子增強(qiáng)器是專為CVD管式爐研發(fā)的升級改造模塊,通過加裝等離子體發(fā)生裝置,可將傳統(tǒng)熱CVD設(shè)備直接升級為PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)系統(tǒng),大幅降低用戶采購全新PECVD設(shè)備的投入成本,適配科研、半導(dǎo)體、新能源等多領(lǐng)域薄膜制備需求。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | CIF | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,汽車及零部件,綜合 |
核心優(yōu)勢
u 原位升級改造:現(xiàn)有管式爐直接加裝,無需更換整爐,改造周期短、投資成本低,快速實現(xiàn)設(shè)備功能升級。
u 低溫沉積工藝:利用等離子體高效活化前驅(qū)體氣體,顯著降低反應(yīng)溫度,適配低溫不耐受基底。
u 膜層質(zhì)量優(yōu)異:沉積薄膜更致密、均勻性好、附著力強(qiáng),減少膜層缺陷,提升產(chǎn)品合格率。
u 材料體系拓展:可制備傳統(tǒng)CVD難以實現(xiàn)的多種功能薄膜,滿足不同行業(yè)工藝需求。
產(chǎn)品特點(diǎn)
u 智能交互界面:配備7寸彩色觸摸屏,支持中英文雙語操作,可實時監(jiān)控、自動調(diào)節(jié)工藝參數(shù),內(nèi)置20組工藝配方,數(shù)據(jù)可存儲、可追溯,便捷管理生產(chǎn)/實驗流程。
u 穩(wěn)定控制系統(tǒng):采用PLC全程控制,支持手動/自動雙模式切換,運(yùn)行穩(wěn)定可靠,杜絕工藝波動。
u 適配性強(qiáng):ICP離子源可升降設(shè)計,兼容不同品牌、不同規(guī)格CVD管式爐,通用性強(qiáng)。
u 人性化結(jié)構(gòu):操作面板60°傾角設(shè)計,符合人體工學(xué),操作舒適便捷;上控制下艙體結(jié)構(gòu)緊湊,節(jié)省安裝空間。
u 工藝高效穩(wěn)定:處理速度快、均勻性好、重復(fù)性高、潔凈無污染,保障批量生產(chǎn)一致性。
u 支持定制化:可根據(jù)用戶爐體結(jié)構(gòu)、工藝需求,定制離子源規(guī)格、控制方式等專屬方案。
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