

簡(jiǎn)要描述:CIF微波等離子清洗機(jī)采用優(yōu)良的微波激發(fā)等離子體技術(shù),通過高活性的等離子體對(duì)物體表面進(jìn)行超潔凈處理,實(shí)現(xiàn)無損傷、無污染的表面清洗、活化和改性。適用于半導(dǎo)體、光電、醫(yī)療、航天、科研等領(lǐng)域的精密清洗需求。
產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | CIF | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,航空航天,綜合 |
微波等離子技術(shù)是用微波電磁場(chǎng)激發(fā)氣體電離,形成低溫,高密度等離子體的技術(shù)。
應(yīng)用領(lǐng)域
u 半導(dǎo)體封裝:芯片焊盤清洗、引線框架處理
u 光學(xué)器件:透鏡、光纖表面清潔與活化
u 醫(yī)療植入物:手術(shù)器械、人工關(guān)節(jié)表面處理
u 汽車電子:傳感器、鍵合表面預(yù)處理
u 科研實(shí)驗(yàn):材料表面改性、納米涂層前處理
產(chǎn)品特點(diǎn)
u 智能交互界面:7寸彩色觸摸屏,中英文雙語(yǔ)操作,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與自動(dòng)調(diào)節(jié)工藝參數(shù),內(nèi)置20組配方程序,支持工藝數(shù)據(jù)存儲(chǔ)與追溯。
u 可靠控制系統(tǒng):PLC全程控制,支持手動(dòng)/自動(dòng)雙模式,清洗過程穩(wěn)定可靠,重復(fù)性優(yōu)異。
u 雙向智能真空控制:支持氣體流量或腔體壓力兩種模式精準(zhǔn)調(diào)控真空度,工藝調(diào)控靈活,適應(yīng)多樣化精密處理需求。
u 精準(zhǔn)氣體管理:標(biāo)配雙質(zhì)量流量計(jì)(MFC),支持氧氣、氬氣、氮?dú)狻錃饧盎旌蠚怏w等多種氣源,控制精度高,工藝一致性優(yōu)。
u 潔凈防污設(shè)計(jì):配備HEPA高效過濾器,氣體返填吹掃功能,避免交叉污染。
u 優(yōu)質(zhì)材質(zhì)結(jié)構(gòu):真空艙體采用316不銹鋼或石英材質(zhì),全真空管路為316不銹鋼,耐腐蝕、無污染。
u 人性化操作設(shè)計(jì):符合人體工能學(xué)操作面板,上控制下艙體結(jié)構(gòu),節(jié)省空間。
u 高效穩(wěn)定工藝:處理快速均勻,重復(fù)性好,樣品處理溫度低,避免熱損傷與熱氧化。
u 周全安全保護(hù):艙門開啟自動(dòng)斷電,可控泄壓等多重防護(hù)機(jī)制,保障操作人員與樣品安全。
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